精密清洗
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精密洗净是一种高要求的清洗技术，用于去除产品表面的有机污染物、无机污染物、颗粒污染物以及氧化物等，以确保产品在使用中的性能和可靠性。广泛应用于半导体、电子显微镜、电子分光仪、电磁波等对真空环境要求极高的领域。
①去除有机污染物：机加工中切削油等
②去除无机污染物：金属粒子、重金属等
③去除颗粒污染物：金属粉、大气中的颗粒物
④去除氧化物：金属表面自然形成的不完全氧化物
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如何实现洁净的效果？
精密清洗作业流程
精密清洗检测结果
| *某日本上市公司对我司精密清洗样品检测数据 | ||
| 材质 | SUS、AL | |
| 规格 | 90*25*10mm M8螺孔8个 | |
| 样品数量 | SUS:5pcs(1-5); AL:5pcs(6-10) | |
| 检测标准 | Anion5项合计≤2000ng | |
| 样品照片 |  |
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| 检测方法 | ||
| 項目 | Anion | Cation |
| 装置 | 881Compact IC Pro(Metrohm社製） | 930 Compact IC Flex(Metrohm社製） |
| 主な測定ion | F-,CI-,NO3-,PO43-,SO42- | Na+, NH4+, K+, Ca2+, Mg2+ |
| Column | A Supp7 | C4 2mm |
| Suppressor | CO2,Suppressor | 無し |
| 検出器 | 電気伝導度 | |
| 检测流程 | ||
| ①浸泡 | ②超纯水250mL | ③IC分析 |
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| 检测数据：SUS、AL Anion5项合计均≤2000ng 全部合格 | |||||||||||||
| No. | 材質 | 洗浄条件 | F- | CI- | NO3- | PO43- | SO42- | Na+ | NH4+ | K+ | Ca2+ | Anion | 合否 |
| (5種) | (5種) | ||||||||||||
| 1 | SUS | 精密洗浄 | 0 | 35 | 320 | 0 | 263 | 251 | 0 | 258 | 0 | 618 | 〇 |
| 2 | 0 | 22 | 355 | 0 | 49 | 45 | 0 | 0 | 0 | 426 | 〇 | ||
| 3 | 0 | 21 | 375 | 0 | 62 | 39 | 0 | 0 | 0 | 458 | 〇 | ||
| 4 | 0 | 7 | 151 | 0 | 39 | 31 | 0 | 0 | 0 | 197 | 〇 | ||
| 5 | 0 | 20 | 206 | 0 | 76 | 56 | 0 | 0 | 0 | 302 | 〇 | 6 | AI | 精密洗浄のみ | 0 | 119 | 327 | 0 | 0 | 335 | 0 | 0 | 7 | 446 | 〇 |
| 7 | 0 | 76 | 436 | 0 | 19 | 334 | 0 | 0 | 7 | 531 | 〇 | ||
| 8 | 0 | 80 | 208 | 0 | 3 | 820 | 0 | 0 | 0 | 291 | 〇 | ||
| 9 | 0 | 125 | 487 | 0 | 140 | 473 | 0 | 152 | 18 | 752 | 〇 | ||
| 10 | 0 | 58 | 176 | 0 | 4 | 613 | 0 | 0 | 0 | 238 | 〇 | ||
检测结果
